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ROLE OF OXYGEN ADDITIONS IN THE PLASMA ETCHING OF SILICON IN TETRAFLUOROMETHANE AND ELEGAS (SF6).
被引：0
作者：
Goncharenko, A.A.
Slovetskii, D.I.
Shelykhmanov, E.F.
机构：
来源：
|
1600年
/
38期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
20
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