Chemical-mechanical polishing of low-dielectric-constant spin-on-glasses: Film chemistries, slurry formulation and polish selectivity

被引：0

作者：

Wang, Y.-L. ^{[1
]}

Liu, C. ^{[1
]}

Chang, S.-T. ^{[1
]}

Tsai, M.-S. ^{[1
]}

Feng, M.-S. ^{[1
]}

Tseng, W.-T. ^{[1
]}

机构：

[1] Chiao-Tung Univ, Hsin-Chu, Taiwan

来源：

Thin Solid Films | 1997年 / 308-309卷

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

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