High resolution photoemission study of low-temperature oxidation on the Si(001) surface

被引：0

作者：

Yeom, Han Woog ^{[1
]}

Uhrberg, Roger ^{[2
]}

机构：

[1] Atom.-scale Surf. Sci. Res. Center, Inst. of Physics and Applied Physics, Yonsei University, Seoul 120-749, Korea, Republic of

[2] Dept. of Phys. and Msrmt. Technology, Linköping University, S-581 83 Linköping, Sweden

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 2000年 / 39卷 / 7 B期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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