Location control of crystal Si grain followed by excimer-laser melting of Si thin-films

被引：0

作者：

Ishihara, Ryoichi ^{[1
]}

van der Wilt, Paul Ch. ^{[1
]}

机构：

[1] Delft Univ of Technology, Delft, Netherlands

来源：

| 1998年 / JJAP, Tokyo, Japan卷 / 37期

关键词：

D O I：

暂无

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