Carbon nitride thin films deposited by the reactive ion beam sputtering technique

被引：0

作者：

Kobayashi, Satoshi ^{[1
]}

Nozaki, Shinji ^{[1
]}

Morisaki, Hiroshi ^{[1
]}

Fukui, Shigeo ^{[1
]}

Masaki, Susumu ^{[1
]}

机构：

[1] Univ of Electro-Communications, Tokyo, Japan

来源：

Thin Solid Films | 1996年 / 281-282卷 / 1-2期

关键词：

Compendex;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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