未找到相关数据
PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF THIN FILMS.
被引：0
作者：
Ojha, S.M.
机构：
来源：
Physics of Thin Films: Advances in Research and Development
|
1982年
/
12卷
关键词：
Compendex;
D O I：
10.1016/s0079-1970(13)70011-2
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
Films
引用
收藏
页码：237 / 296
相关论文