Effect of hydrogen radicals on properties and structure of a-Si1-xCx:H films

被引：0

作者：

Tabata, Akimori ^{[1
]}

Kamijo, Hirotaka ^{[1
]}

Suzuoki, Yasuo ^{[1
]}

Mizutani, Teruyoshi ^{[1
]}

机构：

[1] Nagoya Univ, Nagoya, Japan

来源：

Journal of Non-Crystalline Solids | / 227-230卷 / Pt A期

关键词：

D O I：

暂无

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页码：456 / 459

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