Material properties of ZrN film on silicon prepared by low-energy ion-assisted deposition

被引：0

作者：

机构：

[1] Horita, Susumu

[2] Kobayashi, Mituru

[3] Akahori, Hiroshi

[4] Hata, Tomonobu

来源：

Horita, Susumu | 1600年 / Elsevier Sequoia SA, Lausanne, Switzerland卷 / 66期

关键词：

Crystalline quality - Low energy ion assisted deposition - Material properties;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

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