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High-rate deposition of hydrogenated amorphous silicon films and devices
被引:0
作者
:
Luft, Werner
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Solar Energy Research Inst, United States
Solar Energy Research Inst, United States
Luft, Werner
[
1
]
机构
:
[1]
Solar Energy Research Inst, United States
来源
:
Applied physics communications
|
1988年
/ 8卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
Semiconducting Silicon
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页码:239 / 298
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