Removal of organic compounds from metallographic surfaces using cold concentrated sulfuric acid

被引：0

作者：

Awane, Tohru ^{[1
]}

机构：

[1] Kobe Material Testing Lab Co Ltd, Harimacho, Japan

来源：

Nippon Kinzoku Gakkaishi/Journal of the Japan Institute of Metals | 1999年 / 63卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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