Nanometer-scale patterning of polystyrene resists in low-voltage electron beam lithography

被引：0

作者：

NEC Corp, Tsukuba, Japan ^{[1
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机构：

来源：

Jpn J Appl Phys Part 1 Regul Pap Short Note Rev Pap | / 12 B卷 / 7773-7776期

关键词：

D O I：

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