Structural properties of nickel metal-induced laterally crystallized silicon films and their improvement using excimer laser annealing

被引：0

作者：

机构：

[1] Miyasaka, Mitsutoshi

[2] Shimoda, Tatsuya

[3] Makihira, Kenji

[4] Asano, Tanemasa

[5] Pecz, Béla

[6] Stoemenos, John

来源：

Miyasaka, M. | 1600年 / Japan Society of Applied Physics卷 / 42期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用