Vacuum-deposited TiNi shape memory film. Characterization and applications in microdevices

被引：96

作者：

Johnson, A.David ^{[1
]}

机构：

[1] TiNi Alloy Co, Oakland, United States

来源：

Journal of Micromechanics and Microengineering | 1991年 / 1卷 / 01期

关键词：

Microdevice Shape Memory Alloys - Shape Memory Film Vacuum Deposition - Titanium Nitride Shape Memory Film - Vacuum Deposited Titanium Nitride Memory Films;

D O I：

10.1088/0960-1317/1/1/007

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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