GROWTH KINETICS OF PALLADIUM SILICIDES FORMED BY RAPID THERMAL ANNEALING.

被引：0

作者：

Wei, C.S. ^{[1
]}

Van der Spiegel, J. ^{[1
]}

Santiago, J.J. ^{[1
]}

机构：

[1] Univ of Pennsylvania, Philadelphia,, PA, USA, Univ of Pennsylvania, Philadelphia, PA, USA

来源：

Journal of the Electrochemical Society | 1988年 / 135卷 / 02期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

INTERMETALLICS

引用

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