Ion-assisted etching of boron nitride in radio frequency capacitive discharges

被引：0

作者：

Rossi, F. ^{[1
]}

Thomas, L. ^{[1
]}

Schaffnit, C. ^{[1
]}

机构：

[1] European Commission, Ispra, Italy

来源：

Surface and Coatings Technology | 1998年 / 100-101卷 / 1-3期

关键词：

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暂无

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