未找到相关数据
RIE of III-V materials using CH4 or CH3Cl in H2
被引：0
作者：
Tew, G.S.
Bunce, R.W.
Thomas, H.
机构：
来源：
IEEE International Conference on Plasma Science
|
1995年
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
引用
收藏
相关论文