Front-end design issues in soft-x-ray projection lithography

被引：21

作者：

Ceglio, Natale M. ^{[1
]}

Hawryluk, Andrew M. ^{[1
]}

Sommargren, Gary E. ^{[1
]}

机构：

[1] Advanced Microtechnology Program, Lawrence Livermore National Laboratory, M/S L-395, P.O. Box 808, Livermore, CA 94550, United States

来源：

关键词：

12;

D O I：

10.1364/AO.32.007050

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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