Chemical mechanical polishing of sapphire substrate

被引：0

作者：

Wang, Juan ^{[1
]}

Liu, Yu-Ling ^{[1
]}

Tan, Bai-Mei ^{[1
]}

Li, Wei-Wei ^{[1
]}

Zhou, Jian-Wei ^{[1
]}

Niu, Xin-Huan ^{[1
]}

机构：

[1] Institute of Microelectronics, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China

来源：

Weixi Jiagong Jishu/Microfabrication Technology | 2005年 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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