Etching of thermally grown SiO2 by NH4OH in mixture of NH4OH and H2O2 cleaning solution

被引：0

作者：

机构：

[1] Kaigawa, Hiroyuki

[2] Yamamoto, Koji

[3] Shigematsu, Yasuhiro

来源：

Kaigawa, Hiroyuki | 1600年 / JJAP, Minato-ku, Japan卷 / 33期

关键词：

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