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Surface roughening during plasma-enhanced chemical-vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon on crystal silicon substrates
被引：0
作者：
Tanenbaum, D. M.
Laracuente, A. L.
Gallagher, A.
机构：
来源：
Physical Review B: Condensed Matter
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56卷
/
07期
关键词：
D O I：
暂无
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