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Conformality of SiO2 films from tetraethoxysilane-sourced remote microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition
被引：0
作者：
Raupp, Gregory B.
Levedakis, Dimitri A.
Cale, Timothy S.
机构：
来源：
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
|
1995年
/
13卷
/
3 pt 1期
关键词：
D O I：
暂无
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