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Thermal nitridation of Si(111) surfaces with N2 molecules studied by X-ray photoelectron spectroscopy
被引：0
|作者：
机构：
[1] Tabe, Michiharu
来源：
Tabe, Michiharu
|
1600年
/
JJAP, Minato-ku, Japan卷
/
34期
关键词：
Semiconducting silicon;
D O I：
暂无
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学科分类号：
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