Growth instabilities of CaF2 adlayers deposited at high temperature on Si(111)

被引：0

作者：

Pietsch, H. ^{[1
]}

Klust, A. ^{[1
]}

Meier, A. ^{[1
]}

Wollschlaeger, J. ^{[1
]}

机构：

[1] Universitaet Hannover, Hannover, Germany

来源：

Surface Science | 1997年 / 377-379卷 / 1-3期

关键词：

D O I：

暂无

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