Carbon and silicon doping in GaAs and AlAs grown on (3 1 1)-oriented GaAs substrates by metalorganic chemical vapor deposition

被引:0
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作者
NTT Optoelectronics Lab, Kanagawa, Japan [1 ]
机构
来源
J Cryst Growth | / 1-2卷 / 33-40期
关键词
D O I
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