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Raman study of epitaxial Ga2Se3 films grown by molecular beam epitaxy
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作者
:
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机构:
Yamada, Akira
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1
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Kojima, Nobuaki
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机构:
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
Kojima, Nobuaki
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1
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Takahash, Kiyoshi
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机构:
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
Takahash, Kiyoshi
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Okamoto, Tamotsu
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机构:
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
Okamoto, Tamotsu
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机构:
Konagai, Makoto
[
1
]
机构
:
[1]
Tokyo Inst of Technology, Tokyo, Japan
来源
:
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers
|
1992年
/ 31卷
/ 2 B期
关键词
:
Semiconducting Gallium Compounds;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
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页码:186 / 188
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