New method of photothermal displacement measurement by laser interferometric probe - its mechanism and applications to evaluation of lattice damage in semiconductors

被引：0

作者：

机构：

[1] Sumie, Shingo

[2] Takamatsu, Hiroyuki

[3] Nishimoto, Yoshiro

[4] Horiuchi, Takefumi

[5] Nakayama, Hiroshi

[6] Kanata, Takashi

[7] Nishino, Taneo

来源：

Sumie, Shingo | 1600年 / 31期

关键词：

D O I：

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