In situ ellipsometry and infrared analysis of PECVD SiO2 films deposited in an O2/TEOS helicon reactor

被引：0

作者：

Vallee, C. ^{[1
]}

Goullet, A. ^{[1
]}

Nicolazo, F. ^{[1
]}

Granier, A. ^{[1
]}

Turban, G. ^{[1
]}

机构：

[1] Universite de Nantes, Nantes, France

来源：

Journal of Non-Crystalline Solids | 1997年 / 216卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

21

引用

收藏

页码：48 / 54

相关论文

empty

未找到相关数据