Ion-beam deposition with positive and negative ions

被引：0

作者：

Fujii, K. ^{[1
]}

Horino, Y. ^{[1
]}

Tsubouchi, N. ^{[1
]}

Enders, B. ^{[1
]}

Chayahara, A. ^{[1
]}

Kinomura, A. ^{[1
]}

机构：

[1] Osaka Natl Research Inst, Osaka, Japan

来源：

Surface and Coatings Technology | 1996年 / 84卷 / 1 -3 pt 2期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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