Growth kinetics of TiO2 films deposited by aerosol-assisted chemical-vapor deposition from two different precursors (Ti- n -butoxide and Ti diisopropoxide)

被引：0

作者：

Conde-Gallardo, A. ^{[1
]}

Castillo, N. ^{[1
]}

Guerrero, M. ^{[1
]}

机构：

[1] Departamento de Física, Centro de Investigación y de Estudios Avanzados, Instituto Politecnico Nacional (IPN), Apdo Postal 14-740, &#7742xico D.F. 07360, Mexico

来源：

Journal of Applied Physics | 2005年 / 98卷 / 05期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用