Mechanisms of high PSG/SiO2 selective etching in a highly polymerized fluorocarbon plasma

被引：0

作者：

机构：

[1] Ikegami, Naokatsu

[2] Ozawa, Nobuo

[3] Miyakawa, Yasuhiro

[4] Kanamori, Jun

来源：

Ikegami, Naokatsu | 1600年 / 30期

关键词：

Ion Beams - Polymerization - Silica - Spectroscopy; Photoelectron;

D O I：

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