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Low energy electron beam lithography: pattern distortion by charge trapped in the resist
被引：0
作者：
Russian Acad of Sciences, Moscow, Russia
[1
]
机构：
来源：
Microelectron Eng
|
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1-4卷
/
165-168期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
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