Post-Exposure Bake Kinetics in Epoxy Novolac-Based Chemically Amplified Resists

被引：0

作者：

Argitis, P.

Boyatzis, S.

Raptis, I.

Glezos, N.

Hatzakis, M.

机构：

[1] Institute of Microelectronics, NCSR Demokritos, 15310 Aghia Paraskevi, Attiki, Greece

[2] Institute of Physical Chemistry, NCSR Demokritos, 15310 Aghia Paraskevi, Attiki, Greece

来源：

ACS Symposium Series | / 706卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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