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THERMAL OXIDATION RATE OF A Si3N4 FILM AND ITS MASKING EFFECT AGAINST OXIDATION OF SILICON.
被引：0
作者：
Enomoto, Tatsuya
Anodo, Ryo
Morita, Hiroshi
Nakayama, Haruo
机构：
来源：
|
1978年
/
17卷
/
06期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
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