Carbon nitride thin films prepared by reactive r.f. magnetron sputtering

被引：0

作者：

Logothetidis, S. ^{[1
]}

Lefakis, H. ^{[1
]}

Gioti, M. ^{[1
]}

机构：

[1] Department of Physics, Aristotle University of Thessaloniki, 54006 Thessaloniki, Greece

来源：

Carbon | / 36卷 / 5-6期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：757 / 760