A carbonaceous thin film made by CVD and its application for a carbon/N-type silicon (C/N-SI) photovoltaic cell

被引：0

作者：

Yoshimura Electron Mat. Project, ERATO, JST, Nishino-317, Numazu, Shizuoka 41003, Japan ^{[1
]}

不详 ^{[2
]}

不详 ^{[3
]}

不详 ^{[4
]}

机构：

来源：

Carbon | / 1-2卷 / 137-143期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用