Fast electron beam lithography system with 1024 beams individually controlled by blanking aperture array

被引：0

作者：

机构：

[1] Yasuda, Hiroshi

[2] Arai, Soichiro

[3] Kai, Jun-ichi

[4] Ooae, Yoshihisa

[5] Abe, Tomohiko

[6] Takahashi, Yasushi

[7] Hueki, Syunsuke

[8] Maruyama, Sigeru

[9] Sago, Satoru

[10] Betsui, Keiichi

来源：

Yasuda, Hiroshi | 1600年 / 32期

关键词：

Electron beam lithography;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用