Structural and electrical properties of Ta-Al thin films by magnetron sputtering

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作者：

Grad. Sch. of Electrical Engineering, Da-Yeh University, Chang-Hwa 515, Taiwan ^{[1
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不详 ^{[2
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机构：

来源：

Appl Surf Sci | / 315-318期

关键词：

D O I：

暂无

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