X-ray photoelectron study of the formation of anodic oxide films on aluminum in nitric acid

被引：0

作者：

Parkhutik, V.P. ^{[1
]}

Makushok, Yu.E. ^{[1
]}

Kudryavtsev, V.I. ^{[1
]}

Sokol, V.A. ^{[1
]}

Khodan, A.N. ^{[1
]}

机构：

[1] Minsk Radioengineering Inst, Russia

来源：

Soviet electrochemistry | 1988年 / 23卷 / 11期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

12

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页码：1439 / 1444

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