Formation of β-FeSi2 microstructures by reactive Ion etching using SF6 gas

被引：0

作者：

机构：

[1] Wang, Shinan

[2] Liu, Zhengxin

[3] Fukuzawa, Yasuhiro

[4] Osamura, Masato

[5] Ootsuka, Teruhisa

[6] Suzuki, Yasuhito

[7] Otogawa, Naotaka

[8] Nakayama, Yasuhiko

[9] Tanoue, Hisao

[10] Makita, Yunosuke

来源：

Wang, S. | 1600年 / Japan Society of Applied Physics卷 / 43期

关键词：

D O I：

暂无

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摘要：

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