Radical fluxes in electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition of amorphous silicon

被引：0

作者：

Zhang, Mei ^{[1
]}

Nakayama, Yoshikazu ^{[1
]}

机构：

[1] Univ of Osaka Prefecture, Osaka, Japan

来源：

| 1600年 / JJAP, Minato-ku, Japan卷 / 34期

关键词：

802.3 Chemical Operations - 922.2 Mathematical Statistics - 932.3 Plasma Physics - 933.2 Amorphous Solids;

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

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