High performance electron cyclotron resonance plasma etching with control of magnetic field gradient

被引：0

作者：

机构：

[1] Fujiwara, Nobuo

[2] Sawai, Hisaharu

[3] Yoneda, Masahiro

[4] Nishioka, Kyusaku

[5] Horie, Kazuo

[6] Nakamoto, Kazuo

[7] Abe, Haruhiko

来源：

Fujiwara, Nobuo | 1991年 / 30期

关键词：

12;

D O I：

暂无

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