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Interfacial reactions in the SiO2/Ru and SiO2/Ru/Al-Si structures
被引：0
作者：
Wang, Shi-Qing
Hong, Stella
White, Allen
Hoener, Carolyn
Mayer, J.W.
机构：
来源：
Journal of Applied Physics
|
1995年
/
77卷
/
11期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
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