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Temperature coefficient of resistance fluctuations during electromigration in Al lines
被引：0
作者：
Ciofi, C.
[1
]
Di Pascoli, S.
[1
]
机构：
[1] Universita di Pisa, Pisa, Italy
来源：
Microelectronics Reliability
|
1997年
/
37卷
/
01期
关键词：
D O I：
暂无
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