SUBSTRATE HOT-ELECTRON INJECTION EPROM.

被引：0

作者：

Eitan, Boaz ^{[1
]}

McCreary, James L. ^{[1
]}

Amrany, Daniel ^{[1
]}

Shappir, Joseph ^{[1
]}

机构：

[1] Intel Corp, Santa Clara, CA, USA, Intel Corp, Santa Clara, CA, USA

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：934 / 942