STRESS BIREFRINGENCE IN YIG AND Bi:YIG THIN FILMS.

被引：0

作者：

Mizumoto, Tetsuya ^{[1
]}

Tsuchida, Manaba ^{[1
]}

Banno, Unichi ^{[1
]}

Naito, Yoshiyuki ^{[1
]}

机构：

[1] Tokyo Inst of Technology, Faculty of, Engineering, Tokyo, Jpn, Tokyo Inst of Technology, Faculty of Engineering, Tokyo, Jpn

来源：

Electronics & communications in Japan | 1984年 / 67卷 / 09期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

页码：104 / 114