Development of SOI high voltage CMOS process for plasma display panel driver ICs

被引：0

作者：

Kobayashi, Kenya ^{[1
]}

Yanagigawa, Hiroshi ^{[1
]}

Mori, Kazuhisa ^{[1
]}

Yamanaka, Shuichi ^{[1
]}

Fujiwara, Akira ^{[1
]}

机构：

[1] Semiconductor Div

来源：

NEC Research and Development | 1998年 / 39卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

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页码：508 / 514

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