The temperature dependence of resistivity in thin metal films

被引：0

作者：

Marom, H. ^{[1
]}

Eizenberg, M. ^{[1
]}

机构：

[1] Department of Materials Engineering, Technion, Israel Institute of Technology, 32000 Haifa, Israel

来源：

Journal of Applied Physics | 2004年 / 96卷 / 06期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用

页码：3319 / 3323