Reactive ion etching of sputtered PbZr1-xTixO3 thin films

被引：0

作者：

Saito, Katsuaki ^{[1
]}

Choi, Jai Ho ^{[1
]}

Fukuda, Takuya ^{[1
]}

Ohue, Michio ^{[1
]}

机构：

[1] Hitachi Ltd, Ibaraki, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters | 1992年 / 31卷 / 9 A期

关键词：

D O I：

暂无

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学科分类号：

摘要：

引用