Raman study of tungsten disilicide formation in thin films

被引：0

作者：

Chaix-Pluchery, O. ^{[1
]}

Lucazeau, G. ^{[2
]}

Meyer, F. ^{[3
]}

Aubry-Fortuna, V. ^{[3
]}

Madar, R. ^{[1
]}

机构：

[1] LMGP, ENSPG, INPG, BP 46, 38402 St Martin d'Hères Cedex, France

[2] LEPMI, ENSEEG, INPG, BP 75, 38402 St Martin d'Hères Cedex, France

[3] IEF, Université Paris Sud, Bât. 220, 91405 Orsay Cedex, France

来源：

Vide: Science, Technique et Applications | 1997年 / 53卷 / 283 SUPPL.期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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