Atomic force microscopy study of electron beam written contamination structures

被引：0

作者：

Amman, M.

Sleight, J.W.

Lombardi, D.R.

Welser, R.E.

Deshpande, M.R.

Reed, M.A.

Guido, L.J.

机构：

来源：

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena | 1996年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用